第291章 半导体提议,光刻厂!(3/7)
所以没必要等几年后研发出光刻机,再推进光刻机研发,这样太慢了。
相反直接立项,两代产品,两代技术,一同研发!
如此魄力,王逸都很佩服。
索性道:“光刻机的确困难,需要的上下游产业链太多,咱们差得很远。但换个思路,如果光刻机不好做,做一个光刻厂……会不会容易一点?”
“光刻厂?”秦主任眼睛一亮:“你详细说一说。”
王逸略微思忖,刚想开口,却被秦主任直接打断:
“王董,你稍等下,这种严密的技术性问题,我也不在行,可否让我录个视频,回去给专家院士看?”
“没问题。”王逸摆了摆手。
“谢谢!”秦主任和蔼一笑,当即拿出星逸xhone 1,打开视频录制:“好了,王董,请继续说。”
王逸点点头:“众所周知,阿斯麦的光刻机之所以厉害,能做到5纳米以下的芯片制程,就是因为它能制造5纳米的极紫外光源,这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”
“而光刻机的深紫外光源,最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术,才能量产7纳米,5纳米。甚至5纳米的良品率都不高,成本却不低。至于5纳米以上的4纳米,3纳米,那更不现实,只能靠光刻机的极紫外光源。”
“同样,我们本质上需要的不是光刻机,而是5纳米的极紫外光源!”
“光刻机我们目前造不了,未来难度也很大。但是我们反其道而行,通过其他方式,实现极紫外光源,也能制造出4纳米,3纳米,甚至2纳米,1纳米芯片。”
“比如我之前提到的光刻厂!”王逸顿了顿,继续道:
“建一个光刻厂,通过粒子对撞,实现极紫外光源,然后通过光刻厂的模式,实现光刻机的效果。”
……
“当然,我并非半导体专业人士,以上内容只是基于我不成熟的想法,随口一说。”
“能不能实现,我就不知道了。若是不能实现,还请各位大佬海涵。”
至于能不能实现,他也不知道,但理论上应该可以。
前世华清大学的光刻机,就是要走这个路线,完全不同于阿斯麦的技术路线。
若是真能实现,直接从根源上避开了阿斯麦的专利。
毕竟极紫外光源的产生方式都不一样,也就没有侵犯专利这一说了。
国产技术突破的难度,不只是要做出同样的产品和等效的技术,还要避开西方的专利壁垒,采取完全不同的技术路线。
这就难上加难了。
但即便如此,前世依旧把工业皇冠上的明珠,差点全部摘秃噜皮。
秦主任笑着伸出手:“谢谢,你这些观点很重要,我这就上报。无论如何,都很感谢。”
“主任言重了,若是我说得不对,你们就当我瞎说,海涵。”
“呵呵,那不会。科学的探索本就是知无不言,言无不尽。何况是这么别出心裁的建议,意义重大!”
王逸摆了摆手:“不成熟的想法罢了,希望有点参考价值。光刻机这个东西难,光刻胶也难,都得看国家机器了。”
秦主任点点头:“放心,光刻胶也是官方大力扶持的领域,必须突破!”
王逸松了口气,若是这些难题官方都逐步搞定,那就稳了。
又交流了一番,王逸离开管委会。
而秦主任则直奔某机要之地,汇报王逸的想法。
不管成不成的,都是一个新的思路,让院士专家鉴定一下也好。
不成,可以当做一个思路,有借鉴意义。
若是成了,那就再好不过,弯道超车都有
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